石墨熱場(chǎng)是一種以石墨材料為核心構(gòu)建的高溫?zé)峁芾硐到y(tǒng)，廣泛應(yīng)用于光伏、半導(dǎo)體等高端制造領(lǐng)域，通過電能轉(zhuǎn)化為熱能實(shí)現(xiàn)硅料熔融、晶體生長(zhǎng)及熱場(chǎng)均勻性控制，石墨熱場(chǎng)作為高端制造的核心部件，通過其優(yōu)異的導(dǎo)熱、耐高溫、化學(xué)穩(wěn)定性及經(jīng)濟(jì)性，成為光伏、半導(dǎo)體等產(chǎn)業(yè)不可或缺的基礎(chǔ)設(shè)施。其技術(shù)突破與國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程直接影響行業(yè)成本控制與產(chǎn)能釋放，是推動(dòng)現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵力量。

核心功能高溫熔融與溫度控制石墨熱場(chǎng)可在1414℃以上穩(wěn)定熔化硅料，并維持單晶生長(zhǎng)所需的溫度梯度。例如，在直拉單晶爐中，石墨加熱器通過電流加熱至2000℃以上，確保硅料完全熔融，同時(shí)通過導(dǎo)流筒、保溫罩等部件控制溫度分布，避免局部過熱導(dǎo)致晶體缺陷。

熱場(chǎng)均勻性保障石墨的高導(dǎo)熱性（導(dǎo)熱系數(shù)達(dá)100-200W/m·K）使熱量快速均勻傳遞，減少晶體生長(zhǎng)過程中的熱應(yīng)力。例如，多層石墨氈隔熱系統(tǒng)熱反射率≥90%，可降低能耗20%-30%，同時(shí)保證爐內(nèi)溫度梯度平穩(wěn)，提升單晶硅成品率。污染防控與材料純度高純度石墨（灰分含量<5ppm）可減少熔硅污染，滿足半導(dǎo)體級(jí)硅材料純度要求。例如，等靜壓石墨制成的坩堝與加熱器在高溫下不與硅液反應(yīng)，避免生成碳化硅雜質(zhì)，保障晶體質(zhì)量。

應(yīng)用領(lǐng)域光伏行業(yè)單晶爐熱場(chǎng)：保證單晶硅生長(zhǎng)均勻性，提高成品率與光電轉(zhuǎn)化效率。多晶爐熱場(chǎng)：確保多晶硅快速結(jié)晶，提升產(chǎn)量與品質(zhì)。石墨舟：用于太陽(yáng)能電池制造，促進(jìn)硅料熔融結(jié)晶。半導(dǎo)體行業(yè)為芯片生產(chǎn)提供高純度、均勻的熱場(chǎng)環(huán)境，支撐硅晶圓制備。其他領(lǐng)域冶金、玻璃、陶瓷等行業(yè)利用石墨熱場(chǎng)實(shí)現(xiàn)高效加熱與材料處理。